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日本SIGMAKOKI西格瑪光機電介質膜反射鏡

產品簡介

日本SIGMAKOKI西格瑪光機電介質膜反射鏡,?備有基波(1030nm) ,2次諧波(515nm),3次諧波(343nm),4次諧波(257nm)等多種波長使用的反射鏡。
?反射率高。經過多次反射后的光量衰減小。
?使用吸收小的電介質膜,適合承受大功率激光的連續照射。

產品型號:TFMHP_TFMHPQ
更新時間:2026-02-27
廠商性質:經銷商
訪問量:154
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日本SIGMAKOKI西格瑪光機電介質膜反射鏡
Yb強激光用電介質膜反射鏡 / TFMHPQ-50.8C08-1030特別適用于高功率的光纖激光系統使用的反射鏡。日本SIGMAKOKI西格瑪光機電介質膜反射鏡
?備有基波(1030nm) ,2次諧波(515nm),3次諧波(343nm),4次諧波(257nm)等多種波長使用的反射鏡。
?反射率高。經過多次反射后的光量衰減小。
?使用吸收小的電介質膜,適合承受大功率激光的連續照射。


更多信息
目錄編號W3224
RoHS
CE
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信息?承接定制產品目錄上沒有的尺寸或波長特性的反射鏡。歡迎利用客戶問詢單咨詢。
  WEB參照/カタログコードW3800
?可申請定制在低散亂基板上鍍強激光用多層電介質膜。
   WEB參照/カタログコードW3140
?備有保證鍍膜后面精度的反射鏡(HTFM)。
   WEB參照/カタログコードW3002
?各波長的「波長特性數據」(僅供參考、反射率的單位為R[%])請參考【這里】。
注意?請務必確認入射激光光束的能量密度是否低于激光損傷閾值。
?透鏡或凹面反射鏡匯聚過的光束,更要注意確認其能量密度是否超過元件固有的激光損傷閾值,否則容易發生激光損傷。
?存在一定的透過光(透過率一般小于1%)。但,光束功率很大時,請務必在反射鏡后面,也采取必要的安全防護措施。
?入射光束的偏振狀態影響反射率。與S偏光相比,P偏光入射時的反射率略低,適用波長范圍也略窄。
?樣本上的技術指標中的反射率是P偏光和S偏光的反射率的算術平均值。
?用于設計波長之外的波長區域時,反射率會降低。
技術指標
材質合成石英
鍍膜多層電介質膜
入射角度45°±3°
基板面型精度λ/10
平行度<3′
表面質量10-5
有效直徑外徑的90%
反面光學拋光
適用波長1030 nm
外徑 φDφ50.8 mm
厚度 t8 mm
反射率>99%
激光損傷閾值28 J/cm2( 激光脈沖寬度10 ns, 重復頻率20 Hz )



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